铜溅射靶

产品名称：

7440-50-8
Copper sputtering target
铜溅射靶

产品介绍：

应用
Magnetron sputtering source

备注
Thickness tolerance: ±0.015in; Diameter tolerance: +0.020/-0.0in

基本信息

MDL
MFCD00010965

EINECS
231-159-6

灵敏度
Ambient temperatures.

安全信息

RTECS
GL5325000

TSCA
是

阿法埃莎

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